기술 역량

소재에 대한 이해를
재현성 있는 생산으로.

20년 이상의 공정 경험과 저장대학교 공동 연구실이 석영 정제·나노 실리카 개발을 지원합니다. 시험·분석 결과·생산 피드백을 양산 확대에 활용합니다.

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20+ 핵심 팀의 공정 경험 연수2,000+ 조사한 석영 자원 산지59 Jingui·관련 그룹사의 특허

측정 데이터

기술 판단의 기준은 데이터입니다.

원소 분석·입도 측정·적용 시험으로 원광·공정 중간품·완성 소재를 비교하고, 원료 선정·정제·분쇄 조건에 반영합니다.

Jingui 분석실의 ICP-OES 장비 — ICP-OES · 분석실 측정 역량

01 / 분석 역량

공정 문제가 되기 전에 미량 불순물을 측정합니다.

Agilent 5900 ICP-OES로 석영 소재의 원소 함량을 측정합니다. 현재 분석 절차는 Fe·Ti·Al·Li 등 미량 원소 13종을 대상으로 하며, ppm 수준의 불순물 평가를 지원합니다. 보고한계는 원소·시료 매트릭스·시험 방법별로 확인합니다.

13미량 원소ppm 수준석영 불순물 평가

01접수·등록시료 식별·배치·시험 목적을 기록합니다.
02대표성 있는 시료 채취대표성 있는 분석 시료를 분취·준비합니다.
03시료 전처리선정 방법에 따라 건조·분쇄·분해합니다.
04미량 원소 분석협의된 불순물 원소를 ICP-OES로 측정합니다.
05검토·보고데이터를 검토하고 배치와 연결된 결과를 발행합니다.

D10 0.929 μm·D50 4.126 μm·D90 9.349 μm를 보여 주는 전체 Mastersizer 입도분포 보고서 — Mastersizer · 대표 시료 입도분포 기록

02 / 입도분포

입도 관리는 공칭 크기가 아니라 분포로.

여기에 제시한 레이저 회절법의 체적 기준 입도 분포에서 D10·D50·D90은 각각 전체 입자 체적의 10%·50%·90%가 해당 입경 미만에 분포하는 입자 크기를 뜻합니다. 전체 분포를 통해 충전성·분산성·용융 거동·공정 일관성을 평가할 수 있습니다.

0.929 μm대표 시료 D104.126 μm대표 시료 D509.349 μm대표 시료 D90

전체 곡선으로 분쇄·분급 조건을 조정하고, 반복 생산 배치가 협의된 입도 범위에 있는지 확인합니다.

190–1090 nm 파장축·투과율축·곡선 범례 3개를 포함한 전체 투과율 비교 그래프 — 투과율 비교·용융 관찰

03 / 성능 검증

가공 후 소재 성능을 확인합니다.

화학적 순도·입도 데이터만으로 전체 성능을 설명할 수는 없습니다. 광투과율 비교·제어된 용융 관찰로 후속 공정에서 소재가 어떻게 반응하는지 확인합니다.

광학적 반응측정 파장 범위에서 투과 특성을 비교합니다.
용융 관찰제어된 가열 후 시료 상태·외관을 관찰합니다.
소재 비교제조 방식의 변화와 후속 공정 성능 차이를 연결합니다.

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기술 개발에서 양산으로

두 가지 제조 방식으로 서로 다른 관리 기술을 보여 줍니다.

고순도 석영 개발에서는 천연 원료의 불순물을 관리합니다. 나노 실리카 제조에서는 플라즈마 고온 폭연법으로 고순도 석영사에서 20 nm 구형 분말을 생산합니다.

Jingui는 6N 결정질 석영사와 순도 99.9997%의 20 nm 구형 나노 실리카를 제조합니다.

01 / 천연 석영 정제6N

양산 규모의 초고순도 석영사

광물 자체에서 시작하는 제조 방식입니다. 원광 평가·목표 불순물 제거·오염 차단·배치 시험을 하나의 관리 공정으로 연결해, 선정 석영 원료에서 재현성 있는 초고순도 생산을 구현합니다.

완성 석영사 시험 기록은 고순도 석영사 페이지에서 확인할 수 있습니다.

02 / 플라즈마 입자 기술NANO

양산용 나노 실리카 분말

고순도 석영사를 원료로 플라즈마 고온 폭연법에 의한 물리적 제조 방식을 사용합니다. 생성되는 20 nm 구형 실리카의 기재 순도는 99.9997%입니다.

물리적 제조 방식 · 자체 석영 자원 · 양산 원가 경쟁력

분쇄·분급·오염 관리

적합한 분말 제조 방식에서는 배치식 또는 연속식 볼밀과 공기 분급을 결합하고, 조대 입자는 재분쇄합니다. 세라믹 접촉면·자력선별·배치 시험으로 마모 관련 오염을 관리하며, 설비·라이닝 재질은 목표 불순물 사양에 맞춰 선정합니다.

고순도 석영사 ↗나노 실리카 분말 ↗

공정 중 형상실리카 블룸(硅花)실리카 블룸은 플라즈마 고온 폭연 공정의 형상을 보여 줍니다. 나노 실리카 분말은 구형이며, 제공된 SEM 이미지에서는 느슨한 응집체로 관찰됩니다.

플라즈마 고온 폭연법

20 nm 구형 실리카를 양산 규모로.

자체 석영 자원에서 얻은 고순도 석영사를 원료로, 물리적 제조 방식으로 순도 99.9997%의 구형 나노 실리카를 생산합니다. 플라즈마 고온 폭연법을 활용하고 원료 산지부터 공정을 관리해 양산 시 원가 경쟁력을 확보합니다.

15.99·20.98·41.97 nm 표기가 있는 회사 제공 나노 실리카 SEM 이미지 — SEM · 대표 시료 분말 형상

SiO₂ 순도: 99.9997%
구형 입자 크기: 20nm
BET 비표면적: 204.8413m²/g

자료 기재 입자 크기 범위는 15.9–41.97 nm입니다. 원본 SEM 표기를 유지합니다. 전체 원소 분석·결정 구조·비표면적 데이터는 실리카 분말 페이지에 제시합니다.나노 실리카 전체 데이터 보기

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