超细白色二氧化硅形成的花状中间形态

技术能力

从材料研究,
到稳定生产。

以20余年工艺积累和浙江大学联合实验室为支撑,开展石英提纯与纳米硅微粉研发,通过工艺试验、分析检测和生产反馈推进量产。

了解特色工艺
20+ 年核心团队工艺经验2,000+ 处已研究石英资源59 项专利,覆盖精硅及联合集团

实测验证

每项技术决策,都有数据支撑。

对原矿、工艺中间体和成品开展元素分析、粒度检测及应用试验,用数据指导原料选择、提纯与研磨分级。

精硅分析实验室的ICP-OES仪器
ICP-OES · 实验室分析能力
01 / 实验室能力

提前识别痕量杂质,降低工艺风险。

Agilent 5900 ICP-OES用于测定石英材料中的元素含量。现有分析流程覆盖Fe、Ti、Al、Li等13种痕量元素,支持ppm级杂质评估。各元素的报告限需按样品基体及检测方法确认。

13种痕量元素ppm级石英杂质评估
  1. 01接样登记记录样品标识、批次及检测目标。
  2. 02代表性取样缩分并制备代表性试样。
  3. 03样品制备按选定方法进行干燥、研磨或消解。
  4. 04痕量元素分析采用ICP-OES测定约定杂质元素。
  5. 05审核与报告核验数据,出具与批次对应的结果。
Mastersizer完整粒度报告,显示D10 0.929 μm、D50 4.126 μm、D90 9.349 μm
Mastersizer · 代表性粒度分布记录
02 / 粒度分布

粒度控制,关注完整分布。

D10、D50、D90分别反映颗粒分布的细端、中位和粗端特征。相比单一目数,完整分布更有助于评估堆积、分散、熔制及客户工艺稳定性。

0.929 μm代表性D104.126 μm代表性D509.349 μm代表性D90

通过完整曲线调整粉碎与分级条件,验证连续批次是否保持在约定粒度范围内。

用于应用验证的完整透光率对比与石英熔制观察资料
透光率对比与熔制观察
03 / 性能验证

验证材料加工后的实际表现。

化学纯度与粒度数据只能解释部分性能。透光率对比及受控熔制观察,有助于了解材料进入下游工艺后的表现。

  • 光学表现比较测量波长范围内的透射性能。
  • 熔制观察观察样品在受控加热后的状态与外观。
  • 材料对比分析材料工艺变化与下游性能差异的关系。
了解检测服务

从技术突破到规模生产

两条生产工艺,体现两种控制能力。

高纯石英研发重点在于杂质去除和污染控制;纳米硅微粉采用等离子体爆燃法,结合收集、解团聚与分级控制颗粒特征。

精硅具备6N结晶型石英砂与纳米硅微粉量产能力,纯度和粒度指标分别按具体产品核定。
01 / 天然石英提纯6N

超高纯石英砂规模化生产

从矿石本身入手,将矿源评价、针对性除杂、污染控制和批次检测纳入统一流程,支撑优质原料向稳定的超高纯材料生产转化。

高纯石英砂页面保留成品检测记录,可进一步查看具体数据。
02 / 等离子体颗粒工程纳米

纳米二氧化硅规模化生产

等离子体爆燃法制得二氧化硅中间体,经收集、解团聚和分级后,对粉体的杂质含量与粒度进行检测,按确认指标放行。

能力重点 · 纳米颗粒形成、团聚控制与最终粒度分布稳定性。
研磨分级与污染控制

针对适用粉体,采用间歇式或连续式球磨,并配合气流分级,粗粉返回再磨。通过陶瓷接触部件、磁选除铁和批次检测控制磨损污染;设备及衬材按目标杂质指标选择。

高纯石英砂 纳米二氧化硅
工艺中间体硅花“硅花”是等离子体爆燃过程中形成的轻质花状中间体。“空心”描述的是这一阶段的形貌,不代表最终粉体颗粒内部为空心结构。

等离子体爆燃法

纳米二氧化硅工艺中的可见中间形态。

等离子体爆燃法形成疏松的花状二氧化硅中间体,经收集、解团聚和分级后得到纳米硅微粉,再对成品的杂质含量和颗粒特征进行检测。

纳米二氧化硅SEM图,标示15.99至41.97 nm的测量特征
SEM · 代表性形貌
代表性纯度≥99.999%
报告所列杂质总量<4.47 ppm
SEM观察特征尺寸15.99–41.97 nm
纳米硅微粉代表性数据。SEM图中局部尺寸不等于整批粒度分布,也不作为最终颗粒空心结构的证明;具体规格与检测方法按产品确认。

开展技术评估

从样品、目标或工艺问题入手。

请提供原料、目标成分、粒度范围及用途,我们将匹配相应的检测与开发方案。

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