
高纯硅微粉
高纯原料经过严控污染的微粉化与分级工艺,依据完整痕量元素组成和粒度分布验证产品,不能仅凭白度或单一标称粒径判断。
核心控制 · 杂质组成 · D10/D50/D90 · 粗颗粒尾部 · 批次一致性

综合技术能力
精硅将洁净原料、粉体设备、热工或等离子体技术与自有检测能力结合,在同一技术体系下开发三类高要求粉体。

高纯原料经过严控污染的微粉化与分级工艺,依据完整痕量元素组成和粒度分布验证产品,不能仅凭白度或单一标称粒径判断。
核心控制 · 杂质组成 · D10/D50/D90 · 粗颗粒尾部 · 批次一致性
结合形貌控制与粒度分级,综合评估球形度、多峰分布、流动性及树脂相容性,适配高填充电子封装与覆铜板配方。
核心控制 · 球形度 · 堆积密度 · 流动性 · 超大颗粒控制 · 表面相容性
通过等离子体爆燃法制备,再经收集、解团聚、分级和检测形成纳米硅微粉。“硅花”是过程中的形貌,供货产品为后续处理后的粉体。
核心控制 · 能量输入 · 冷却 · 团聚 · 分散 · 最终颗粒结构现有月产能
高纯与球形牌号依托硅微粉生产体系,等离子体法纳米产品配有独立产能。
高纯与球形牌号开发
等离子体法纳米材料工艺

技术与设备优势
气流磨与分级设备控制微米级粒度分布。球形及纳米硅微粉采用各自适用的成形工艺,再结合分级、杂质检测与颗粒表征确认产品指标。
自主控制微米级粒度分布,减少对外部委托加工的依赖。
每道成型工序后,控制粗颗粒尾部、细粉及有效粒度范围。
根据产品要求形成球形形貌或纳米结构。
利用杂质与粒度数据优化后续生产批次。
高纯硅微粉 · 代表性数据
企业提供的C616记录对应标称粒径5 μm的二氧化硅样品。数据用于技术筛选,并明确其适用范围,不据此推导缺乏依据的纯度结论。
索取正式受控记录 ↗二氧化硅材料 · 样品C616
| 元素 | 结果 | 元素 | 结果 |
|---|---|---|---|
| K | 0.10 | Mg | 0.23 |
| Na | 0.48 | Al | 0.64 |
| Fe | 3.53 | Ti | 0.30 |
| Li | 0.001 | Cr | 0.73 |
| Cu | 0.03 | Ni | 0.23 |
| Mn | 0 | Zr | 4.22 |
| Ca | 2.39 | — | |
| 所列13种元素合计 | 12.881 mg/kg | ||
| Cl⁻ | ND* | ||
按应用选型
同为SiO₂,应用作用也可能不同。最终选型应结合下游树脂、填充量、分散方法、可靠性要求及验收测试。
上述为开发与验证方向,商业应用仍需在客户实际体系中按具体牌号完成测试。

工艺中间体,非最终产品
等离子体爆燃法形成的花状中间体称为“硅花”,疏松、空心的外观属于工艺过程形貌。实际供货产品为经收集、解团聚、分级和检验后的纳米硅微粉。
最终供货产品硅花之后
中间体经收集、解聚、分级后,完成成品检验放行。
技术交流
请提供应用场景、目标成分、粒度范围和预计用量,我们将为您安排后续技术沟通。
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